本拠点の設備は下記の３分野に分かれています。
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| 設備ID | 装置名 | 型番(メーカー名) | 写真 | 設置場所 |
|---|---|---|---|---|
| 成膜装置 | ||||
| NU-213 | 8元マグネトロンスパッタ装置 | (研究室自作) |
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先端研151室 |
| NU-214 | 8元MBE装置 | (アネルバ社製（特注）) |
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先端研151室 |
| NU-205 | 3元マグネトロンスパッタ装置 | HSR-522 (島津製作所) |
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先端研CR |
| NU-224 | 電子ビーム蒸着装置 | EBX-10D (アルバック社製) |
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VBL |
| NU-229 | スパッタ絶縁膜作製装置 | AFTEX-3420 (MESアフティ社製) |
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VBL |
| NU-216 | スプレーコーター | DC110 (サンメイ製) |
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先端研CR |
| NU-245 | スパッタリング装置 | E-200S (キヤノンアネルバ社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-248 | パリレンコーティング装置 | DACS-LAB (KISCO社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-221 | プラズマCVD装置 | PD-240 (サムコ社製) |
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先端研CR |
| NU-232 | 原子層堆積装置 | AD-100LE (サムコ製) |
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VBL |
| NU-262 | プラズマ誘起CVD装置 | PD-220N (サムコ製) |
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VBL |
| 露光・描画装置 | ||||
| NU-206 | 電子線露光装置 | JBX6300FS (日本電子社製) |
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先端研CR |
| NU-222 | レーザー描画装置 | DWL66FS (Heidelberg Instruments社製) |
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先端研CR |
| NU-244 | レーザ描画装置 | µPG101-UV (Heidelberg Instruments社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-231 | マスクレス露光装置 | DL-1000 (ナノシステムソリューションズ製) |
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VBL |
| NU-257 | 露光プロセス装置一式 | PEM800 (ユニオン光学社製) |
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EI創発工学館 |
| NU-223 | フォトリソグラフィ装置 | K310P100S (共和理研社製) |
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VBL |
| NU-208 | マスクアライナ一 | MA-6 (Suss Micro Tec AG社製) |
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先端研CR |
| NU-250 | マスクアライナ一 | MJB-3 (Suss Micro Tec AG社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-251 | マスクアライナ一 | LA410 (ナノテック社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-246(1) | 3次元レーザ・リソグラフィシステム | フォトニック・プロフェッショナル (Nanoscribe社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-247 | ナノインプリント装置 | X-300 BVU-ND (SCIVAX社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-249 | 高精度電子線描画装置 | SPG-724 (日本電子社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-260 | マスクレス露光装置 | PALET DDB-701-DL4 (ネオアーク社製) |
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先端研CR |
| NU-268 | 電子線描画用データ処理ソフトウェア | BEAMER (GenISys社製) |
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先端研 |
| 露光・描画装置 | ||||
| NU-215 | ECR-SIMSエッチング装置 | ECRイオンガン：RGB-114 （入江工研社製） SIMS検出器：EDP400 (PFEIFFER社製) |
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先端研151 |
| NU-225 | ICPエッチング装置 | CE-300I (アルバック社製) |
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VBL |
| NU-234 | ICPエッチング装置 | RIE-200iPN (サムコ製) |
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VBL |
| NU-209 | ICPエッチング装置一式 | RIE-800 (サムコ社製) |
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先端研CR |
| NU-226 | RIEエッチング装置 | RIE-10NR (サムコ社製) |
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VBL |
| NU-256 | Deep Si Etcher | Multiplex-ASE (住友精密工業製) |
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全学技術センター |
| NU-235 | 超高密度大気圧プラズマ装置 | (富士機械製造株式会社) |
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NIC4F 410 |
| NU-243 | 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター） | (NUシステム社製) |
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NIC4F 410 |
| NU-237 | ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 | (自作) |
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NIC4F 410 |
| NU-238 | 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置 | (自作) |
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NIC4F 410 |
| NU-239 | 表面解析プラズマビーム装置 | (自作) |
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NIC4F 410 |
| NU-240 | in-situプラズマ照射表面分析装置 | (自作) |
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NIC4F 410 |
| NU-267 | RIEエッチング装置 | RIE-10NR (サムコ社製) |
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先端研 |
| その他プロセス装置 | ||||
| NU-201 | イオン注入装置 | NH-20SR-WMH (日新電機社製) |
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先端研CR |
| NU-218 | 電気炉 | MODEL272-2 (光洋リンドバーグ社製) |
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先端研CR |
| NU-219 | 酸化・拡散炉 | MODEL270-M100 (光洋リンドバーグ社製) |
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先端研 |
| NU-202 | 急速加熱処理装置 | Heatpulse 610 (AG Associates社製) |
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先端研CR |
| NU-246(2) | 超臨界乾燥機 | SCLEAD3CD2000 (KISCO社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-253 | SEM用断面試料作製装置 | SM-09010 (日本電子社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-211 | フェムト秒レーザー加工分析システム | UFL-Hybrid (輝創社製) |
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先端研102-2 |
| NU-210 | ダイシングソー装置 | DAD522 (サムコ社製) |
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先端研CR |
| 計測・分析装置 | ||||
| NU-227 | 走査型電子顕微鏡 | S5200 (日立ハイテクフィールディング社製) |
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VBL |
| NU-228 | 走査型電子顕微鏡 | S4300 (日立ハイテクフィールディング社製) |
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VBL |
| NU-204 | 原子間力顕微鏡 | AXS Dimension3100 (Bruker社製) |
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先端研151 |
| NU-220 | 小型微細形状測定機 | ET200 (小坂研究所社製) |
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先端研CR |
| NU-236 | In-situ 電子スピン共鳴（ESR) | EMX Premium X (Bruker社製) |
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NIC館410 |
| NU-259（1） | 交番磁界勾配型磁力計 | PMC MicroMag 2900 (LakeShore社製) |
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IB館北棟加藤研 |
| NU-259（2） | 振動試料型磁力計 | TM-VSM271483-HGC (玉川製作所製) |
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IB館北棟加藤研 |
| NU-259（3） | トルク磁力計 | TRT-2 (東英工業) |
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IB館北棟加藤研 |
| NU-259（4） | 磁気光学スペクトロメータ | (自作) |
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IB館北棟加藤研 |
| NU-252 | 蛍光バイオイメージング装置 | 共焦点レーザ顕微鏡 A1Rsi-N (ニコン社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-254 | デジタルマイクロスコープ | VK-9700 (KEYENCE社製) |
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IB館西棟5F |
| NU-255 | デジタルマイクロスコープ | VK-9510 (KEYENCE社製) |
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IB館北棟加藤研 |
| NU-207 | X線光電子分光装置 | ESCALab250 (VG社製) |
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先端研155室 |
| NU-258 | フーリエ変換赤外分光分析装置 | FT/IR-615V型 (日本分光社製) |
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IB館北棟牧原研 |
| NU-233 | 蛍光りん光分光光度計 | Fluoromax-4P (堀場製作所社製) |
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VBL |
| NU-261 | 段差計 | ET200A (小坂研究所社製) |
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VBL |
| NU-263 | 高分解能走査型電子顕微鏡 | JSM-IT800 (日本電子社製) |
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先端研 |
| NU-264 | 原子間力顕微鏡 | NX20 (パーク・システムズ社製) |
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先端研 |
| NU-265 | 物理特性測定装置 | DynaCool-12T (日本カンタム・デザイン社製) |
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先端研 |
| NU-266 | 全自動X線回折装置 | SmartLab 9kW (リガク社製) |
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先端研 |