3次元レーザ・リソグラフィシステム群 - 名古屋大学 次世代バイオマテリアル・拠点

Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度：100 nm
・3次元加工精度：150 nm
・対応データ：DXF, STL KISCO　SCLEAD3CD2000
・設計温度：100 ℃
・設計圧力：20 MPa