- 2024年9月30日
・光源:1041 nm, 550 fs, 10 µJ
・高調波発生ユニット:40% @520 nm (加工ステーション)
・最大試料寸法:100 mm x 100 mm
・加工スポット:5 µmφ (分析ステーション)
・時間分解磁気分析
・光源:1041 nm, 550 fs, 10 µJ
・高調波発生ユニット:40% @520 nm (加工ステーション)
・最大試料寸法:100 mm x 100 mm
・加工スポット:5 µmφ (分析ステーション)
・時間分解磁気分析