両面露光用マスクアライナ - 名古屋大学次世代バイオマテリアル拠点

・対応基板サイズ：10mm～最大6インチ径ウェハ
・主波長：350 nm〜450 nm
・裏面アラインメント機能（CCD画像記憶方式）
・アライメント精度:±0.5 µm(表面アラインメント)，±0.1 µm(裏面アラインメント)