ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 - 名古屋大学次世代バイオマテリアル拠点

・プラズマ処理の際に生成する温度，ラジカル密度，励起種，表面分析をIn-situで行う．
・プロセスガス：H2，N2，Ar，O2，He
・基板温度：－10℃-60℃
・サンプル：4インチウエハ