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プラズマCVD装置 - 名古屋大学 次世代バイオマテリアル・拠点
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プラズマCVD装置 - 名古屋大学 次世代バイオマテリアル・拠点
・基板加熱:抵抗加熱式 (~400℃)
・適正ウェハ寸法:不定形~3インチ径
・供給ガス:TEOS, O2
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2024年9月30日
BioJapan2024に出展いたします。