設備紹介 - 名古屋大学 次世代バイオマテリアル・拠点

物質・材料合成プロセス分野
設備ID 装置名 型番(メーカー名) 写真 設置場所
自己組織化ナノ超構造の構造解析装置群
NU-001 全自動元素分析装置 2400II CHNS/O
(Perkin Elmer社製)		 工3号館･113号室
NU-002 X線粉末回折装置 Smart Lab 3K1d/2dDSC
(リガク社製)		 工1号館･106号室
NU-003 蛍光X線装置 NEX CG（EDXL 300)
(リガク社製)		 工1号館･106号室
NU-019 微小単結晶X線構造解析装置 VariMax with Saturn-N
(Rigaku(株)製)		 工1号館･233号室
NU-020 粒径測定装置　ゼータ電位・粒径測定システム
(ゼータ電位、粒径・粒度分布） 		ELSZ-2
(大塚電子(株))		 工2号館･474号室
自己組織化ナノ超構造の組成解析装置群
NU-004 走査型電子顕微鏡 JSM-7500F
(JEOL社製 )		 工1号館･233号室
NU-018 MALDI TOF型質量分析装置 MALDI TOF MS autoflex maX
(Bruker社製)		 工1号館･1035号室
キラリティー分光測定装置群
NU-006（1） 電子円二色性
【2024年度ご利用できません】 		ECD J-702YS
(JASCO社製)		 工1号館･1006号室
NU-006（2） 拡散反射円二色性分光装置
【2024年度ご利用できません】 		DRCD PCD-466
(JASCO社製)		 工1号館･1006号室
NU-006（3） 振動円二色性
【2024年度ご利用できません】 		VCD FVS-6000
(JASCO社製)		 工1号館･1006号室
キラル分離支援装置群
NU-007 液体クロマトグラフィー
【2024年度ご利用できません】
(JASCO社製)		 工1号館･1006号室
NU-013 動的光散乱 Zetasizer Nano ZS
(Malvern社製 )		 理共館･201号室
ナノバイオ分子の細胞実験・前臨床研究装置群
NU-021 ナノバイオ分子合成・超解像解析評価システム N-SIM+N-STORM+A1R+A1RMP+JASM-6200 ClairScope
(ニコン・日本電子製)		 理共館･101号室
NU-022 発光・蛍光in vivoイメージングシステム IVIS Lumina K ver4.4
(PerkinElmer社製)		 医系研究棟3号館・907号室
NU-023 実験小動物用MRIシステム MR VivoLVA®アカデミックモデル1506
(DSファーマバイオメディカル社製)		 医系研究棟3号館・907号室
NU-024 フローサイトメーター BD LSRFortessa™ X-20
(BD Biosciences社製)		 医系研究棟3号館・907号室
NU-025 X線CT・蛍光ダブルモーダルin vivoイメージングシステム IVIS Spectrum CT
(PerkinElmer社製)		 医系研究棟3号館・907号室
NU-026 光検出磁気共鳴活性(ODMR)と蛍光寿命測定可能な高速多光子共焦点レーザ顕微鏡
(Nikon社)		 医系研究棟3号館・706号室
NU-027 4D-プロテオミクス解析装置
(BRUKER社 / BRUKER　Corporation)		 理共館･201号室
加工・デバイスプロセス分野
設備ID 装置名 型番(メーカー名) 写真 設置場所
NU-213 8元マグネトロンスパッタ装置
(研究室自作)		 先端研151室
NU-214 8元MBE装置
(アネルバ社製（特注）)		 先端研151室
NU-205 3元マグネトロンスパッタ装置 HSR-522
(島津製作所)		 先端研CR
NU-224 電子ビーム蒸着装置 EBX-10D
(アルバック社製)		 VBL
NU-229 スパッタ絶縁膜作製装置 AFTEX-3420
(MESアフティ社製)		 VBL
NU-216 スプレーコーター DC110
(サンメイ製)		 先端研CR
NU-245 スパッタリング装置 E-200S
(キヤノンアネルバ社製)		 IB館西棟5F
NU-248 パリレンコーティング装置 DACS-LAB
(KISCO社製)		 IB館西棟5F
NU-221 プラズマCVD装置 PD-240
(サムコ社製)		 先端研CR
NU-232 原子層堆積装置 AD-100LE
(サムコ製)		 VBL
NU-262 プラズマ誘起CVD装置 PD-220N
(サムコ製)		 VBL
露光・描画装置
NU-206 電子線露光装置 JBX6300FS
(日本電子社製)		 先端研CR
NU-222 レーザー描画装置 DWL66FS
(Heidelberg Instruments社製)		 先端研CR
NU-244 レーザ描画装置 µPG101-UV
(Heidelberg Instruments社製)		 IB館西棟5F
NU-231 マスクレス露光装置 DL-1000
(ナノシステムソリューションズ製)		 VBL
NU-257 露光プロセス装置一式 PEM800
(ユニオン光学社製)		 EI創発工学館
NU-223 フォトリソグラフィ装置 K310P100S
(共和理研社製)		 VBL
NU-208 マスクアライナ一 MA-6
(Suss Micro Tec AG社製)		 先端研CR
NU-250 マスクアライナ一 MJB-3
(Suss Micro Tec AG社製)		 IB館西棟5F
NU-251 マスクアライナ一 LA410
(ナノテック社製)		 IB館西棟5F
NU-246(1) 3次元レーザ・リソグラフィシステム フォトニック・プロフェッショナル
(Nanoscribe社製)		 IB館西棟5F
NU-247 ナノインプリント装置 X-300 BVU-ND
(SCIVAX社製)		 IB館西棟5F
NU-249 高精度電子線描画装置 SPG-724
(日本電子社製)		 IB館西棟5F
NU-260 マスクレス露光装置 PALET DDB-701-DL4
(ネオアーク社製)		 先端研CR
NU-268 電子線描画用データ処理ソフトウェア BEAMER
(GenISys社製)		 先端研
露光・描画装置
NU-215 ECR-SIMSエッチング装置 ECRイオンガン：RGB-114
（入江工研社製）
SIMS検出器：EDP400
(PFEIFFER社製)		 先端研151
NU-225 ICPエッチング装置 CE-300I
(アルバック社製)		 VBL
NU-234 ICPエッチング装置 RIE-200iPN
(サムコ製)		 VBL
NU-209 ICPエッチング装置一式 RIE-800
(サムコ社製)		 先端研CR
NU-226 RIEエッチング装置 RIE-10NR
(サムコ社製)		 VBL
NU-256 Deep Si Etcher Multiplex-ASE
(住友精密工業製)		 全学技術センター
NU-235 超高密度大気圧プラズマ装置
(富士機械製造株式会社)		 NIC4F 410
NU-243 真空紫外吸収分光計(原子状ラジカルモニター）
(NUシステム社製)		 NIC4F 410
NU-237 ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
(自作)		 NIC4F 410
NU-238 高温プロセス用誘導結合型プラズマエッチング装置
(自作)		 NIC4F 410
NU-239 表面解析プラズマビーム装置
()		 NIC4F 410
NU-240 in-situプラズマ照射表面分析装置
()		 NIC4F 410
NU-267 RIEエッチング装置 RIE-10NR
(サムコ社製)		 先端研
その他プロセス装置
NU-201 イオン注入装置 NH-20SR-WMH
(日新電機社製)		 先端研CR
NU-218 電気炉 MODEL272-2
(光洋リンドバーグ社製)		 先端研CR
NU-219 酸化・拡散炉 MODEL270-M100
(光洋リンドバーグ社製)		 先端研
NU-202 急速加熱処理装置 Heatpulse 610
(AG Associates社製)		 先端研CR
NU-246(2) 超臨界乾燥機 SCLEAD3CD2000
(KISCO社製)		 IB館西棟5F
NU-253 SEM用断面試料作製装置 SM-09010
(日本電子社製)		 IB館西棟5F
NU-211 フェムト秒レーザー加工分析システム UFL-Hybrid
(輝創社製)		 先端研102-2
NU-210 ダイシングソー装置 DAD522
(サムコ社製)		 先端研CR
計測・分析装置
NU-227 走査型電子顕微鏡 S5200
(日立ハイテクフィールディング社製)		 VBL
NU-228 走査型電子顕微鏡 S4300
(日立ハイテクフィールディング社製)		 VBL
NU-204 原子間力顕微鏡 AXS Dimension3100
(Bruker社製)		 先端研151
NU-220 小型微細形状測定機 ET200
(小坂研究所社製)		 先端研CR
NU-236 In-situ　電子スピン共鳴（ESR) EMX Premium X
(Bruker社製)		 NIC館410
NU-259 磁気特性評価システム群
()		 IB館北棟加藤研
NU-259（1） 交番磁界勾配型磁力計 PMC MicroMag 2900
(LakeShore社製)		 IB館北棟加藤研
NU-259（2） 振動試料型磁力計 TM-VSM271483-HGC
(玉川製作所製)		 IB館北棟加藤研
NU-259（3） トルク磁力計 TRT-2
(東英工業)		 IB館北棟加藤研
NU-259（4） 磁気光学スペクトロメータ
(自作)		 IB館北棟加藤研
NU-252 蛍光バイオイメージング装置 共焦点レーザ顕微鏡　A1Rsi-N
(ニコン社製)		 IB館西棟5F
NU-254 デジタルマイクロスコープ VK-9700
(KEYENCE社製)		 IB館西棟5F
NU-255 デジタルマイクロスコープ VK-9510
(KEYENCE社製)		 IB館北棟加藤研
NU-207 X線光電子分光装置 ESCALab250
(VG社製)		 先端研155室
NU-258 フーリエ変換赤外分光分析装置 FT/IR-615V型
(日本分光社製)		 IB館北棟牧原研
NU-233 蛍光りん光分光光度計 Fluoromax-4P
(堀場製作所社製)		 VBL
NU-261 段差計 ET200A
(小坂研究所社製)		 VBL
NU-263 高分解能走査型電子顕微鏡 JSM-IT800
(日本電子社製)		 先端研
NU-264 原子間力顕微鏡 NX20
(パーク・システムズ社製)		 先端研
NU-265 物理特性測定装置 DynaCool-12T
(日本カンタム・デザイン社製)		 先端研
NU-266 全自動X線回折装置 SmartLab 9kW
(リガク社製)		 先端研
計測・分析分野
設備ID 装置名 型番(メーカー名) 写真 設置場所
NU-101 反応科学超高圧走査透過電子顕微鏡システム  JEM-1000K RS
(日本電子)		 超高圧電子顕微鏡施設122室
NU-102 高分解能電子状態計測走査透過型電子顕微鏡システム  JEM-ARM200F Cold
(日本電子)		 超高圧電子顕微鏡施設120室
NU-103 高分解能透過電子顕微鏡システム  JEM-2100F/HK
(日本電子)		 超高圧電子顕微鏡施設102室
NU-104 直交型高速加工観察分析装置  MI4000L
(日立ハイテクノロジーズ)		 超高圧電子顕微鏡施設104室
NU-105 バイオ／無機材料用高速FIB-SEMシステム  ETHOS NX5000
(日立ハイテクノロジーズ)		 超高圧電子顕微鏡施設111室
NU-106　試料作製装置群
NU-106 FIB後処理用イオンミリング装置 ナノミル Model1040  試料作製装置群
(ニューメタルズエンドケミカルス)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 アルゴンイオン研磨装置 PIPSⅡ  試料作製装置群
(Gatan)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 クロスセクションポリッシャー IB-09020CP　  試料作製装置群
( E.A. Fischione Instruments)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 常温・凍結切片作製用 ウルトラミクロトーム Leica EM UC7  試料作製装置群
(ライカマイクロシステムズ)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 GentlMill　 Model IV5  試料作製装置群
(LINDA社)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 ダイヤモンドワイヤーソー　DWS3242  試料作製装置群
(メイワフォーシス)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 卓上AEM　JCM-6000Plus  試料作製装置群
(日本電子)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
NU-106 コーター類　Neoc-Pro/P  試料作製装置群
(メイワフォーシス等)		 超高圧電子顕微鏡施設118室
その他 イオンスライサー、ダイヤラップ、ディンプルグラインダーなど  試料作製装置群
(日本電子等)		 超高圧電子顕微鏡施設119室