・試料中に存在する不対電子のリアルタイム計測 ・気体分析可能 ・サンプルサイズ：……
・有機溶媒を用いたナノグラフェン合成，液体分析，細胞改質が可能 ・電源9kV，……
・対応基板：100mm×100mm ・加工精度：3µm ・最小アドレスグ……
・形式：熱式，UV式 ・最大ワークサイズ：Φ150mm ・最大荷重：50kN……
・触針式・垂直分解能：10nm ・測定距離：50µm～55mm
・最大露光面積：200mmx200mm ・最小画素：1µm（高精細露光……
・光源：オゾンレスキセノンランプ，燐光用フラッシュランプ ・試料最大サイズ：〜1……
・対応基板サイズ：2インチx4枚 ・プロセスガス：Cl2,BCl3,O2
・大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理（改質、洗浄） ・使用ガス：A……
・温度範囲：600-1150℃ ・ウェット酸化用
・基板加熱：抵抗加熱式(～400℃) ・適正ウェハ寸法：不定形～3インチ径 ・……
・最大サンプルサイズ：φ160×厚さ48mm ・再現性：1σ1nm以内 ・測……
